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第209章 计算机辅助光刻掩膜工艺（第1页）

法国巴黎。

北郊维勒潘特展览中心工业博览会会场。

设在偏僻角落里的中国馆却是人声鼎沸，除了各国参展的客商，还有推波助澜的媒体记者，很多人都是抱着看笑话的心态在围观……

巴黎领馆负责接机的同志，把莫铮领到代表团团长宋予乔面前，给双方做了简单的介绍。

“莫总，您终于来了，你看现场乱的，头皮都要炸了……”宋予乔顾不上寒暄，三言两语把情况做了介绍。

“走一步看一步吧！国内光刻机方面的技术专家会很快赶过来！我先过去看看……”

莫铮快速浏览完光刻机展品的各项技术参数，已经挤到人群中央。

“天哪！你们连光刻机的底层逻辑都不清楚，居然敢声称研发出了全球最先进的光刻机……”

“他们连水稻都敢亩产几万斤，何况一台无法验证的光刻机？”

“也不能一概而论，或许中国人是出于技术保密的缘故呢？”

“艾达，你不会真的相信一个因为封锁禁运，长期与外界隔绝的国家，能够研发出尖端的光刻机吧？”

“我觉得没有什么不可能，光刻机比原子弹还难吗？一个能够独立完成两弹一星的国家，研发出来光刻机，有什么不可能的？”

…………

被围得水泄不通的展厅门口，多国语言此起彼伏，如同喧闹的菜市场。

莫铮好不容易挤到人群中央，使劲鼓了鼓掌，然后大声用英语说道：“各位业界同仁，以及媒体朋友，我叫莫铮，接下来就由我来回答大家的问题！请提问者使用英文或者中文提问，使用其它语种的，请自备翻译……”

“莫先生，我是东京电子株式会社的商务代表小岛正雄，你能不能给我们介绍一下这台光刻机的各项性能？”一名留着八字胡的日本人，用日语问道。

“这位先生，请您使用英语或者中文提问！”代表团带来的翻译刚准备翻译，被莫铮摆摆手止住之后说道。

小岛正雄吃了个下马威，只能用英语，把刚才的提问重新复述了一遍。

“各位，这是中国华清大学自主研发的GK-3型半自动光刻机，加工精度3微米，达到世界领先水平！采用的是计算机辅助光刻掩模工艺……”莫铮用流利的英文滔滔不绝的介绍道。

“纳尼？3微米的加工精度？这绝不可能！连我们东京电子株式会社都没有达到！你们怎么可能生产出这么高精度的光刻机……”小岛正雄瞪大了眼睛质疑道。

“东电在日本也只是一个二流半导体设备企业，被尼康和佳能牢牢压制，生产不出来不是很正常嘛！”莫铮轻描淡写的说道。

围观的人群中，传来一阵哄笑声，绝大部分欧美客商，也打心里讨厌一向趾高气昂的日企。

“你们中国人一贯喜欢伪造数据，没有人会相信你们能够制造出3微米的光刻机！”小岛正雄被这一顿抢白，气的脸色通红，便想通过质疑的方式挽回颜面。

“小岛先生，你应该为你的口无遮拦道歉，否则，你将会收到我们的律师函！我们欢迎各位业界同仁的技术交流，并提出合理质疑，但是，绝不纵容像小岛先生这样，怀有恶意的歧视和诽谤！”莫铮一字一句的说道。

小岛正雄一下子愣住了，这可是公开场合，只要随便找几个人出庭作证，还真的会给自己带来麻烦……

“对不起，我收回刚才的话……”斟酌再三之后，小岛正雄不得不低下他那愚蠢且傲慢的头颅，一本正经的道歉道。

“小岛先生，我希望这种不愉快的事，不要再发生第二次！另外，我想给您一句忠告，东电应该把精力放在技术革新方面，而不是对竞争对手无端的指控！您还有什么其它问题吗？”莫铮打完别人的脸，又故作大度的说道。

小岛正雄气的脸红脖子粗，却愣是一句话也说不上来。

“莫先生，我是日本经济新闻记者加代子，众所周知，光刻机是一个集机械、材料、应用化学、光学等多个尖端科技的集成，中国有一句成语叫做闭门造车！华清大学是怎么在与外界隔绝的情况下，造出来3微米光刻机的呢？”一个长的有点像后世日本女优的姑娘，也想帮助同胞找回颜面。

“加代子小姐，中国还有一句成语叫做百年磨一剑！据我所知，早在12年前，中国就自主研制成功65型接触式光刻机，而这台GK-3型半自动光刻机，华清大学用了七年的时间，才研发成功！放眼全球，又有那一样尖端科技的问世，背后没有大量技术人员留下的汗水？”莫铮微笑着说道。

“莫先生，说实话，我对你们取得的成就感到非常惊讶！你们居然只用了短短几年时间，光刻掩模工艺就从传统的刻图缩微制版工艺，快进到最先进的计算机辅助设计光刻掩膜工艺！我可以见见设计这台GK-3型半自动光刻机的技术总监吗？”一名带有明显北欧裔特征的中年男人，看了半天光刻机之后，抬起头问道。

“这位先生过奖了！早在十几年前，约翰-摩尔先生就说过，同样面积的计算机芯片上，集成的晶体管数量，每隔18个月到24个月就会增加一倍，而我们从传统刻图缩微制版工艺到如今掌握成熟的计算机辅助设计光刻掩膜工艺，已经用了整整七年的时间，我们本来还能够走得更快一点的……”莫铮装模作样的说道，他虽然知道未来光刻机的技术发展方向，但对于这台GK-3型半自动光刻机来说，他肚子里的货已经快被掏空了。

“即便从摩尔定律来说，你们也已经取得了不起的成就！从采用刻图缩微制版工艺的接触式光刻机，到计算机辅助设计光刻掩膜工艺的GK-3型半自动光刻机，加工精度达到3微米，集成的晶体管数量提高了又何止10几倍？”北欧裔中年男人由衷的赞叹道。

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