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光刻机经历多个发展节点。
目前。
最先进的浸润式光刻机,已经达到28纳米精度。
协议自然是针对浸润式光刻机。
问题来了!
华夏转让的是技术。
拿到技术研发、生产,这是需要一个过程的,时间大约在半年左右。
但!
谢武负责浸润式光刻机研发。
有陈皓的成熟技术,三四个月就能迭代。
因此,北美拿到28纳米技术,还没等研发、制造出来,华夏已完成14纳米研发。
短时间即可投产!
这时候。
华夏再把14纳米技术给北美。
北美是不是又要研发?
等他们研发成功,7纳米的又出来了。
诚然,他们跟华夏技术差距,不再像以前那么夸张了,但终究还是慢了一代。
这不是最致命的。
浸润式光刻机精度极限是7纳米。
那么……
华夏能给北美的,最终止步于7纳米。
别忘了!
谢武对浸润式光刻机,进一步挖掘精度的同时,杜阳和顾经纶一直都在,进行EUV光刻机研发。
到目前为止,都已经快有一年了,离成功不远了吧?
EUV光刻机。
全称极紫外光刻机。
跟浸润式光刻机有技术重叠,但本质上也有非常大的区别。
至少。
它不能算浸润式光刻机吧?
当然也不属于华夏跟北美,签订的浸润式光刻机协议。
一旦研发成功,只有浸润式光刻机技术,北美又如何跟华夏抗衡?
随着EUV研发推进,最终甚至达到1纳米,双方依旧天渊之别!
至于其他领域技术转让……
比如芯片设计。
给你又怎样?
我用EUV光刻机造芯片,你没有同级别的光刻机,有芯片设计也没用啊。
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